الصين تخطو بثبات نحو الاستقلال التكنولوجي: تصنيع شرائح 3 نانومتر دون الاعتماد على معدات غربية

الدار/ تقارير

تمكنت الصين مؤخرًا من تصنيع شرائح إلكترونية متطورة بدقة 3 نانومتر، دون استخدام أنظمة الطباعة الضوئية فائقة الدقة (EUV) التي تنتجها شركة “ASML” الهولندية، والتي تعد العمود الفقري لصناعة الرقائق المتقدمة في العالم الغربي.

هذا الإنجاز الفني يمثل خطوة نوعية في مساعي بكين لتحقيق الاكتفاء الذاتي في مجال صناعة أشباه الموصلات، وهو القطاع الذي لطالما شكّل إحدى نقاط الضغط الكبرى في سياق الحرب التكنولوجية بين الصين والولايات المتحدة.

وتعتمد عملية تصنيع الشرائح بدقة 3 نانومتر عادة على أجهزة EUV بالغة التعقيد، التي تستخدم أشعة فوق بنفسجية عميقة لنقش تفاصيل بالغة الصغر على رقائق السيليكون. إلا أن الصين نجحت، بحسب تقارير متخصصة، في تطوير تقنيات بديلة تعتمد على تحسين معدات DUV التقليدية، إلى جانب ابتكارات جديدة في طرق التصنيع والمعالجة.

ويرى مراقبون، مثل المستثمر التكنولوجي شاماث باليهابيتيا، أن هذه التطورات تحمل دلالات عميقة، إذ تشير إلى أن الصين لم تعد مجرد لاعب يسعى للحاق بركب التكنولوجيا، بل أصبحت تبني مسارها الخاص بمعايير قد تفرض نفسها عالميًا خلال السنوات المقبلة.

وتأتي هذه النجاحات في ظل مساعٍ حثيثة تقودها الحكومة الصينية لدعم قطاع أشباه الموصلات، عبر ضخ استثمارات ضخمة وتوفير بيئة حاضنة للابتكار، ضمن خطط استراتيجية كبرى مثل “صُنع في الصين 2025”، التي تهدف إلى تقليل الاعتماد على التقنيات الغربية في المجالات الحيوية.

وفي ظل استمرار القيود الأمريكية على صادرات التكنولوجيا المتقدمة إلى الصين، يبدو أن بكين قررت تسريع جهودها لتحقيق الاستقلال الكامل في هذا القطاع، وهو ما قد يؤدي مستقبلاً إلى إعادة رسم خريطة القوى التكنولوجية العالمية، مع صعود الصين كلاعب رئيسي في مجالات كانت حتى وقت قريب حكرًا على الغرب.